太陽能硅片雷士超聲波清洗機
技術參數
電源電壓：220V 
超聲波功率：12KW 
超聲波頻率40KHz
加熱功率：6kw/槽 
性能特點 
1、利用超聲波空化作用，并且設計各槽上下拋動，使污垢徹底脫落； 
2、根據清洗工藝設置超聲波電控箱，PLC全程控制，操作簡便； 
3、槽子底部設有接渣口，沉淀污垢及時排渣； 
4、適當加入弱堿，加快清洗的速度，提高清洗的效率
太陽能光伏專用設備 ，包括制絨酸洗設備、去磷硅玻璃（PSG）、擴散爐、刻蝕機、硅片清洗機、硅芯硅料清洗機等，
清洗范圍：
半導體硅片、太陽能電池硅片、晶體、電阻、電容、PCB板、IC芯片、接插件、連接件、轉接器、硅片、三極管、二極管、電子線路板、電腦主板、壓電陶瓷片、顯象管、電真空器件等電子器件的生產加工過程工序間的清洗。
清洗原理
借助于表面活性劑的潤濕、滲透、乳化、增溶、分散等作用, 使沾污在Si片表面的附著力削弱, 再施以加熱、超聲波等物理方法, 使沾污脫離 Si片表面, 而進人清洗液中被乳化 、分散開。
在清洗液中超聲清洗Si片表面其原理可用“空化” 現象來解釋: 超聲波振動在液體中傳播的音波壓強達到一個大氣壓時, 其功率密度為O.35 W/cm, 這時超聲波的音波壓強峰值就可達到真空或負壓, 但實際上無負壓存在, 因此在液體中產生一個很大的壓力, 將液體分子拉裂成空洞一空化核。此空洞非常接近真空, 它在超聲波壓強反向達到最大時破裂, 由于破裂而產生的強烈沖擊將Si片表面的污物撞擊下來，而這種由無數細小的空化氣泡破裂而產生的沖擊波現象稱為“空化”現象。在超聲清洗中, 表面活性劑也發揮著重要作用, 通過表面活性劑的乳化、分散作用, 可以顯著削弱沾污對Si片表面的吸附, 從而獲得好的清洗效果。
清洗溶劑：
環保型有機溶劑
主要特點：
1．推車式上下料，使用靈活方便；
2．采用單臂機械手，各工位清洗時間可按工藝要求調整；
3．投入式超聲震板，超聲功率連續可調并顯示，
4．超聲頻率可微調，配有掃描電路，可單獨控制；
5．進出口處及設備頂部設有抽風裝置，防止溶劑散發到工作環境；
6．配有清洗籃旋轉裝置，滿足細微產品清洗要求；
7．采用自吸水泵添加溶劑，更換溶劑方便快捷；